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中國半導體:EUV原型機傳重大突破,能否撼動ASML獨霸地位?解析關鍵影響

中國半導體自主化再邁大步!業界傳出中國在極紫外光(EUV)光刻機原型研發取得重大突破,引發全球關注。這項被稱為「曼哈頓計畫」的國家級攻堅,旨在擺脫對西方技術依賴。儘管距商業量產仍有距離,此進展已對ASML與台積電構成潛在挑戰,預示全球半導體格局將迎來深遠變化。